ALOXTEC 제조사 소개

ALOXTEC 회사 및 제품 소개

회사 개요

ALOXTEC은 III-V 화합물 반도체의 습식 열 산화(Wet Thermal Oxidation) 공정을 위한 장비를 전문으로 개발하는 회사입니다. VCSEL, EEL, III-V 도파로, 실리콘 포토닉스 등 포토닉 소자 제조에 필수적인 산화 공정을 위한 ALOX GEN1.4L Manual, ALOX GEN1.4L Auto, ALOX GEN2.0 HV Auto, CHAROX 1.0 등의 장비를 제공합니다. 실시간 in-situ 광학 모니터링, UniformPerf© 기술, Stop-on-Aperture 자동화 등을 통해 정밀한 산화 조리개 제어와 높은 수율을 구현합니다. 주요 시장은 소비자 가전, 데이터센터 및 AI 인프라, 자동차 LiDAR, 산업 및 헬스케어 분야입니다.

주요 제품

- ALOX GEN1.4 Series: 3인치에서 8인치 웨이퍼를 지원하는 습식 열 산화 장비군입니다. 선택적 산화 공정을 통해 6인치 웨이퍼에서 조리개 균일도 <±0.3 µm (UniformPerf© 적용 시)를 달성하며, 공정 간 편차 σ < 0.1 μm를 제공합니다. Manual 및 Auto 모델이 있으며, Auto 모델은 자동 산화 직경 제어(최대 3 µm) 및 정지 기능을 갖춥니다.

- ALOX GEN2.0 HV Auto: 고진공 자동 습식 열 산화 장비로, 대량 생산 환경에 적합합니다. GEN1.4L Auto와의 레시피 호환성을 통해 생산 램프업 시 재인증 지연을 없앱니다.

- CHAROX 1.0: 특성화 및 매핑 장비로, 산화 공정 후 웨이퍼의 특성을 평가합니다.