MIVA 제조사 소개

MIVA 회사 및 제품 소개

회사 개요

MIVA Technologies는 독일 슈레나익 본사를 기반으로 PCB, 미세 시스템, 반도체 분야의 고정밀 직접 노광(Direct Imaging) 및 포토마스크 작성(Mask Writing) 장비를 전문으로 하는 기업입니다. 사만의 특허 기술인 DART(실시간 래스터화 기술)와 쿼드웨이브 LED 광원, 그라나이트 베이스를 적용하여 노광 정밀도와 생산 효율을 극대화합니다. 표준 장비를 기반으로 고객의 공정, 형식, 재료에 맞춰 모듈식 확장 및 소프트웨어 프리셋을 제공하는 코엔지니어링 방식을 채택하며, 글로벌 인증 서비스 센터와 파트너 네트워크를 통해 원격/현장 지원, 24시간 대응, 예측 가능한 유지보수 계약을 포함한 종합적인 기술 파트너십을 제공합니다.

주요 제품

- Direct Imagers: PCB 생산 및 대형 패널/특수 형식용 직접 노광 시스템입니다. 2200L DI는 컴팩트한 올라운더 모델이며, 3000L DI는 모듈식 확장형으로 프로토타입부터 대량 생산까지 대응합니다.

- Mask Writers: 미세 시스템 및 반도체용 고해상도 포토마스크 직접 작성 장비입니다. 레이저 및 LED 광원 선택이 가능하며, 연구 및 산업용 고정밀 노광에 적합합니다.

- DART Real-Time Correction Modules: 실시간 노광 보정 및 프로세스 제어 기술 모듈입니다. 노출 후 라인 폭 측정, 3D 지형도 생성, 고속 스캔, 드릴 스케일링 등을 통해 불량률을 25% 이상 줄이고 설정 시간을 단축합니다.

주요 서비스

- Custom Engineering & Process Consultation: 고객의 공정, 형식, 재료를 분석하여 기본 장비를 모듈식으로 확장하거나 소프트웨어 프리셋을 맞춤 설정하는 코엔지니어링 서비스입니다.

- Global Support & Maintenance Services: 본사 및 글로벌 인증 서비스 센터를 통해 원격 및 현장 지원, 24시간 대응, 예측 가능한 서비스 계약을 제공하는 유지보수 및 기술 지원 네트워크입니다.