SELVAC (주식회사 셀박) 제조사 소개

SELVAC (주식회사 셀박) 회사 및 제품 소개

- 설립: 1989년 4월

- 대표자: 마츠바라 카즈오 (와다 카즈오)

- 본사: 일본 교토부 교토시 미나미구 카미토바 미나미나카노츠보초 19

- 사업 내용: 반도체 제조 장치의 제조 및 판매

주요 제품 및 서비스:

- HDP-CVD 장치: 저온 성막 및 고속 처리가 가능한 타입 B와 타입 H 제공. 저온 SiO2 성막 시 열산화막과 동등한 내전압(10MV)의 막 형성 가능.

- 고순도 석영관 적외선 램프 히터: 높은 투과율로 청정 가열에 적합.

- SATERA (상온 접합 장치): 독자적인 플라즈마 표면 활성화 기술과 높은 위치 정밀도를 결합하여 메모리 3차원 적층 및 CMOS 이미지 센서를 지원.

- ICP 고밀도 플라즈마를 이용한 저온 처리 장비: 열에 의한 시간 손실과 전력 소비를 줄임.

- 대량 처리 가능한 두꺼운 막(수십 μm) 가공 장비: 단매식 대비 처리 시간 단축.

- 기타: ECR 드라이 에칭 장치, 메탈 CVD 장치, ICP-CVD 롤투롤 장치, 유기EL용 가스 배리어 필름, 300mm 게이트 절연막 CVD 장치 등.

주요 연혁:

- 1989년: ECR 드라이 에칭 장치 개발

- 1993년: 플라즈마 CVD 장치 개발

- 2008년: 업계 최초 ICP-CVD 롤투롤 장치 개발

- 2017년: 상온 접합 장치 개발

- 2021년: 베이징에 합작 회사 설립